[资料]晶片清洗用去离子水设备应用特点有哪些

发表于2020-02-05    1人浏览    0人跟帖    总热度:10  

  晶片清洗对水质要求较高,如果水质不合格直接影响晶片质量会对生产厂商造成一定损失。

  晶片清洗用去离子水设备的应用有效解决了晶片清洗用水难题。下面为您详细介绍晶片清洗用去离子水设备应用特点:

  (1) 晶片清洗用去离子水设备出水水质优良,出水pH值接近中性。

  (2) 晶片清洗用去离子水设备出水水质稳定,短时间运行条件变化(如进水水质或组分、运行流速等)对混床出水水质影响不大。

  (3) 晶片清洗用去离子水设备间断运行对出水水质的影响小,恢复到停运前水质所需的时间比较短。


分享至

分享到微信朋友圈 ×

打开微信"扫一扫",扫描上方二维码
请点击右上角按钮 ,选择 

 回帖后跳转到最后一页


分享