中青年科技人员住宅楼工程施工组织设计

发表于2004-07-28     2195人浏览     1人跟帖     总热度:85  

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内容简介

本工程位于北京市海淀区清华东路甲35号,中国科学院半导体研究所家属院内北侧、北临林学院北路,建筑面积16931.01㎡(地上15015.24㎡;地下1765.26㎡),±0.00的绝对标高为48.65m,室内外高差0.45m。地下一层;地上A段十层、B段七层,且均有地下夹层,全现浇剪力墙结构,8度近震设防。

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 发表于2004-07-28   |  只看该作者      

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    该篇施组具体施工方案较为详细、可操性也较好,措施基本完善,突出了剪力墙结构的特点,并增加必要的插图,形象直观,图文并茂。施工平面图布置上也较好利用了所有场地,考虑得比较周全。

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